×

晶圆的研抛原理是将整晶圆减薄到一定的厚度,再通过切割的方式将整晶圆分离成一颗颗芯片,研抛工艺主要包括晶圆背面减薄、抛光、贴膜及正面切割等工序,是整晶圆分离成单颗芯片最重要的环节,同时对后续的封装工艺有非常重要的影响。

九峰山实验室研抛工艺设备
  • SIC Stealth Laser Dicing
  • Polisher
  • CMP
  • Diamond Blade Saw
联系我们
分享与关注
关注九峰山实验室微信公众号,获取新鲜资讯
Copyright © 九峰山实验室      备案号:鄂ICP备2021010535号-1   地址:武汉市东湖高新技术开发区九龙湖街9号   邮政编码:430078